半導(dǎo)體環(huán)境露點(diǎn)儀是半導(dǎo)體制造中不可少的濕度監(jiān)測設(shè)備，其核心功能是通過精準(zhǔn)測量氣體或環(huán)境中的露點(diǎn)溫度（即水汽達(dá)到飽和凝結(jié)的溫度），確保生產(chǎn)環(huán)境與工藝氣體的干燥度符合嚴(yán)苛標(biāo)準(zhǔn)。多采用冷鏡式或電容式傳感器技術(shù)。冷鏡式通過半導(dǎo)體熱電堆制冷鏡面，當(dāng)水汽在鏡面凝結(jié)時，利用光反射變化觸發(fā)信號，精確測定露點(diǎn)溫度，精度可達(dá)±0.1℃。
1、精確測量氣體濕度（露點(diǎn)溫度）
核心功能：直接測量并顯示氣體中的水蒸氣含量，以露點(diǎn)溫度（℃或℉）表示。露點(diǎn)溫度越低，表示氣體越干燥。
高精度與寬量程：半導(dǎo)體級露點(diǎn)儀通常具有高的測量精度（可達(dá)±0.2°C或更高）和極低的測量下限（可低至-100°C甚至-110°C露點(diǎn)），滿足半導(dǎo)體工藝對超低濕度的嚴(yán)苛要求。
2、實(shí)時在線監(jiān)測
可進(jìn)行連續(xù)、實(shí)時的在線監(jiān)測，提供不間斷的濕度數(shù)據(jù)流，便于及時發(fā)現(xiàn)環(huán)境波動或異常。
避免了傳統(tǒng)取樣檢測的滯后性，確保生產(chǎn)環(huán)境始終處于受控狀態(tài)。
3、預(yù)防水分污染，保障產(chǎn)品質(zhì)量
防止氧化：在晶圓制造、光刻、沉積等關(guān)鍵工藝中，微量水分可能導(dǎo)致金屬層氧化、影響薄膜質(zhì)量。露點(diǎn)儀通過監(jiān)控干燥氣體的純度，有效防止此類問題。
避免顆粒生成：水分可能與工藝氣體中的雜質(zhì)反應(yīng)生成微粒，污染晶圓表面。保持低露點(diǎn)有助于減少顆粒污染。
保證化學(xué)反應(yīng)穩(wěn)定性：在CVD（化學(xué)氣相沉積）、蝕刻等工藝中，水分的存在會干擾化學(xué)反應(yīng)，影響工藝重復(fù)性和產(chǎn)品良率。
4、確保工藝氣體純度
半導(dǎo)體生產(chǎn)中使用的高純氮?dú)猓∟?）、氬氣（Ar）、壓縮空氣等必須極度干燥。露點(diǎn)儀是驗(yàn)證這些氣體是否達(dá)到規(guī)定干燥標(biāo)準(zhǔn)（如<-70°C或<-80°C露點(diǎn)）的關(guān)鍵工具。
5、監(jiān)控干燥設(shè)備性能
用于監(jiān)測和評估干燥機(jī)（如吸附式干燥機(jī)、膜式干燥機(jī)）、過濾器和管道系統(tǒng)的性能。
當(dāng)露點(diǎn)讀數(shù)異常升高時，可及時預(yù)警設(shè)備故障（如干燥劑失效、過濾器堵塞、泄漏），便于維護(hù)和更換。
6、數(shù)據(jù)記錄與報(bào)警功能
數(shù)據(jù)輸出：配備模擬輸出（4-20mA,0-10V）和數(shù)字通信接口（RS-485,Modbus,Ethernet等），可將露點(diǎn)數(shù)據(jù)傳輸至PLC、DCS或SCADA系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)集中監(jiān)控和數(shù)據(jù)分析。
報(bào)警設(shè)置：可設(shè)定高/低露點(diǎn)報(bào)警閾值。當(dāng)濕度超出安全范圍時，觸發(fā)聲光報(bào)警或繼電器信號，提醒操作人員采取措施，防止批量產(chǎn)品報(bào)廢。
7、快速響應(yīng)與穩(wěn)定性
采用高性能的濕度傳感器（如電容式氧化鋁、冷鏡式或激光吸收式），具有快速的響應(yīng)時間（T90<60秒）和長期穩(wěn)定性，減少漂移，降低校準(zhǔn)頻率。
8、適應(yīng)嚴(yán)苛工業(yè)環(huán)境
耐腐蝕：傳感器和管路材料（如316L不銹鋼）能耐受潔凈室中可能存在的微量化學(xué)品。
抗污染設(shè)計(jì)：具備自清潔功能或防油、防塵涂層，減少污染物對傳感器的影響。
IP防護(hù)等級高：外殼通常具備IP65或更高等級，防塵防水，適合工業(yè)現(xiàn)場安裝。
